1、拋光必須在清潔無塵的室內(nèi)進(jìn)行。因?yàn)橛矇m粒會(huì)污染研磨材料,損害已接近完成的模具表面。
2、每個(gè)拋光工具只使用一個(gè)級別的拋光鉆石膏,并存放在防塵或密封的容器內(nèi)。
3、當(dāng)要轉(zhuǎn)換更細(xì)一級的砂號時(shí),要注意該級砂號是否完全覆蓋上一級(較粗)砂紋,必須清洗雙手和工件。
4、開始拋光時(shí)要先處理角落、邊角和圓角等較難拋光的地方。
5、處理尖角及邊角時(shí)應(yīng)特別小心,注意不要形成圓角或圓邊,應(yīng)盡量采用較硬的拋光工具進(jìn)行模具的研磨和油石打磨。
拋光機(jī)由底座、拋盤、拋光織物、拋光罩及蓋等基本元件組成。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響終極觀察到的組織,即不會(huì)造成假組織。同時(shí)還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向往返移動(dòng),以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液,使拋光織物保持一定濕度。電念頭固定在底座上,固定拋光盤用的錐套通過螺釘與電念頭軸相連。為了達(dá)到粗拋的目的,要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低,最好不要超過500r/min;拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長些,由于還要去掉變形層。拋光織物通過套圈緊固在拋光盤上,電念頭通過底座上的開關(guān)接通電源起動(dòng)后,便可用手對試樣施加壓力在滾動(dòng)的拋光盤長進(jìn)行拋光。粗拋目的是去除磨光損傷層,這一階段應(yīng)具有最大的拋光速率,粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,不外也應(yīng)當(dāng)盡可能??;其次是精拋(或稱終拋),其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,使超聲波模具拋光機(jī)拋光損傷減到小。
拋光罩及蓋可防止灰土及其他雜物在機(jī)器不使用時(shí)落在拋光織物上而影響使用效果。解決這個(gè)矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。拋光機(jī)操縱的樞紐是要想法得到最大的拋光速率,以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤速度可適當(dāng)進(jìn)步,拋光時(shí)間以拋掉粗拋的損傷層為宜。